• 光刻胶龙头彤程新材,公布大消息

    发布日期:2023-11-23 13:25    点击次数:107

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      光刻胶龙头,公布大消息

      来源:上海证券报 

      “好消息啊,我们一直在等待他家的新产能投产,现在供应的产品不够用。”11月5日,彤程新材披露光刻胶项目新进展,某晶圆厂人士如此评述。

      11月5日晚间,彤程新材公告称,公司全资子公司上海彤程电子材料有限公司(简称“彤程电子”)在上海化学工业区投资建设年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目的工程阶段已竣工,目前已逐步进入试生产阶段。

      年产300/400吨ArF及KrF

      光刻胶产线进入试生产

      根据公告,彤程电子上海化学工业区工厂占地36200平方米,设计能力年产1千吨半导体光刻胶、1万吨显示用光刻胶和2万吨高纯EBR试剂(光刻胶去边剂)。同时在国际国内半导体厂商及光刻胶厂商战略合作推动下,完成了产线优化及品控升级。

      其中,在半导体光刻胶方面,彤程电子的年产300/400吨ArF及KrF光刻胶量产产线,通过采用超高纯PFA(涂层)设备、引入高精度物料流量控制系统、配以自研的高精度高效率光刻过滤系统,可以实现ppt级金属杂质及0.1um级别的颗粒管控,具备不同配方先进制程光刻胶的生产能力。

      对此,有业内人士表示,年产300/400吨ArF及KrF光刻胶的产能算比较大了,彤程新材半导体光刻胶品类也较多,此次扩产产能可同时供应国内大部分芯片制造商,能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。

      稳定供应国内头部芯片制造商

      半导体光刻胶是备受市场关注的领域,彤程新材在半导体光刻胶领域实力如何?

      在此次进展公告中,公司透露,在ArF光刻胶产品方面,公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发,首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品,已具备量产能力,目前处于量产前的光刻工艺测试及产品验证阶段,能否验证通过尚存在一定的不确定性。

      在G线、I线及KrF光刻胶产品方面,彤程新材G线光刻胶已经占据国内较大的市场份额;I线光刻胶已广泛应用于国内6英寸、8英寸、12英寸集成电路产线,支持的工艺制程涵盖14nm及以上工艺。KrF光刻胶量产品种达20种以上,稳定供应国内头部芯片制造商。

      此前,彤程新材在2023年半年报中披露,报告期内公司继续加大在半导体光刻胶方面的研发投入,新增研发立项48项,包括14个KrF光刻胶项目,26个I线光刻胶项目,8个新材料项目。新产品销售收入占比达到半导体光刻胶业务收入总额的41.36%。今年上半年,KrF光刻胶依然保持着较快的增速达到52.56%;I线光刻胶方面,ICA光刻胶开始放量,增长率达到96.82%。

      在2022年年报中,彤程新材披露,截至2022年底公司共有22家12英寸客户,20家8英寸客户,8/12英寸客户的营收贡献率是公司半导体光刻胶业务营收贡献的主力。新产品方面,2022年公司共有68支新品通过客户验证并获得订单,新产品销售额在半导体光刻胶总收入中的占比达到40%,再创历史新高。

      2021年,彤程新材新增21支新产品通过客户验证并获得订单,新产品销售额在半导体光刻胶总收入中的占比达到25.96%,创历史新高。产品序列方面,21支新品包括248nm(KrF)光刻胶10支、I线光刻胶9支、LED及先进封装用光刻胶2支,如国内首款248nm负性光刻胶DKN系列产品,高分辨I线光刻胶C7600系列产品及厚膜ICA光刻胶C9120系列产品。

      彤程新材同时披露,为解决ArF光刻胶所需的高纯溶剂及国内先进工艺制程的需求,公司已经搭建完成高纯EBR装置,成为国内首家建有高纯EBR精馏塔设备及掌握高纯精馏技术的本土溶剂供应商。公司生产的EBR溶剂已达到G4等级规格,可满足国内40纳米以下工艺制程的芯片制造技术需求,年产2万吨的规模量产能力可有效满足国内先进制程需求。

      公司预计第四季度将完成高纯度G5等级EBR的验证,目前已在国内几家先进芯片制造商中逐步推动产品验证。

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    责任编辑:杨红卜